FUJI富士工業(yè) CMP化學產品專用多組分濃度計 FUD-1 Model-53
多組分濃度計特點 可以實時測量三種成分中兩種的濃度模擬DC4-20mA（2線）和數字RS232C是標準設備。 標準配備測量誤差輸出和報警輸出 標準配備自診斷功能和錯誤信息顯示 小型、輕量的單元型發(fā)射器可以直接安裝在生產線上。 優(yōu)點 可實現高精度連續(xù)測量 免維護，無需定期調整或校準 安裝方便，安裝過程中無需進行各種調整 通過實時輸出輕松反饋流程
目的 CMP工藝中的CMP漿料和氧化劑濃度管理等。 清洗過程中的清洗液濃度管理等（HF+HNO3、HF+H2SiF6等） 蝕刻過程中蝕刻液濃度控制（TMAH+抗蝕劑、TMAH+Si等）
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